• Главная
  • Физика приборов
  • Подложки для тонкопленочных схем
  • Технология интегральных схем
  • Аппаратура

Главное меню
  • Главная
  • Физика приборов
  • Подложки для тонкопленочных схем
  • Технология интегральных схем
  • Аппаратура
  • Интегральные схемы
Главная

Последние новости

  • Электронный зонд
  • Растровые электронные микроскопы в микроэлектронике
  • Источники загрязнения органическими веществами
  • Неправильное измерение давления
  • Десорбированный диск

Самое популярное

  • Резонансный усилитель
  • Концентрация
  • Работа машины
  • Рабочая температура
  • Электрическая изоляция

Инжекция электронов

Совсем иной механизм для объяснения инжекции электронов из истока в CdS был предложен в работе [б]. Пусть некоторая часть атомов тех металлов, которые, как показывает опыт, обеспечивают ток через CdS (индий, галлий, алюминий), диффундирует в кристалл на небольшую глубину и образует вблизи поверхности слой м+ с высокой проводимостью. Большая концентрация доноров приведет к тому, что уровень Ферми в этом узком приповерхностном слое будет расположен очень близко к дну зоны проводимости кристалла и, следовательно, выше уровня Ферми в металле.
 

Зеркальный монтаж

Если в схеме кроме пассивных компонентов должны быть и активные, то для их присоединения к тонкопленочной схеме применяется метод, известный под названием «зеркальной» технологии (см. стр. 236). Для этого специальные бескорпусные транзисторы, выпускаемые различными фирмами, имеют металлические выступы-шарики на контактных площадках базы, эмиттера и коллектора. Такие транзисторы помещаются на поверхность подложки лицевой стороной, чтобы шарики расположились на соответствующих соединительныхучастках. При нагревании системы металлические шарики расплавляются и сплавляются с золотой пленкой на подложке.
 

Увеличение скорости напыления

Показано также, что увеличение скорости напыления снижает размер критических зерен и при большой скорости напыления будет получена пленка с малой величиной, г, а следовательно, с более непрерывной структурой. Это предсказание также подтверждено практикой.
Итак, нами изучен процесс роста тонких пленок, включающий выход отдельных атомов из испарителя, их путь к подложке и их перемещение по подложке до образования структуры, имеющей минимальную энергию. Выяснилось, что принятая простая модель объясняет влияние температуры подложки, скорости напыления и температуры плавления металла на структуру пленки.
 

Факторы, влияющие на выбор схемы

С точки зрения потребителя, важнейшими показателями интегральных схем (ИС) являются стоимость, надежность и рабочие характеристики. Эти показатели определяются всем технологическим комплексом, детали которого различны у разных фирм. В большинстве случаев при выборе блоков цифровой аппаратуры разработчик рассматривает их как «черные ящики» и производит оценку конкурирующих блоков по следующим показателям:
Стоимость, отнесенная к числу выполняемых функций.
При использовании этой оценки следует проявлять большую осторожность, поскольку сравнительные цифры могут быть некорректными; лучше всего сравнивать стоимости наиболее характерных узлов разрабатываемой системы.
 
Еще статьи...
  • Фотомеханические методы в микроэлектронике
  • Разработчики и изготовители ИС
  • Структура и свойства диэлектрических пленок
  • Механизм прохождения тока в тонкопленочном канале

<< Первая < Предыдущая 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 Следующая > Последняя >>

Страница 13 из 27


.