• Главная
  • Физика приборов
  • Подложки для тонкопленочных схем
  • Технология интегральных схем
  • Аппаратура

Главное меню
  • Главная
  • Физика приборов
  • Подложки для тонкопленочных схем
  • Технология интегральных схем
  • Аппаратура
  • Интегральные схемы
Главная

Последние новости

  • Электронный зонд
  • Растровые электронные микроскопы в микроэлектронике
  • Источники загрязнения органическими веществами
  • Неправильное измерение давления
  • Десорбированный диск

Самое популярное

  • Резонансный усилитель
  • Концентрация
  • Работа машины
  • Рабочая температура
  • Электрическая изоляция

Шум

В то же время у них должен иметь место тепловой шум обусловленный флуктуациями тока основных носителей из-за их рассеяния в кристаллической решетке. Этот шум должен быть «белым», а его природа — та же, что и в газовой плазме. Мелкие ловушки, распределенные вдоль канала, будут непрерывно заполняться и освобождаться, увеличивая таким образом флуктуации тока и белый шум. При очень больших напряженностях поля в тонкой изолирующей пленке возможна медленная миграция ионов, что приводит к конечному сопротивлению утечки между затвором и каналом и вносит дополнительную составляющую шума.
Одним из наиболее неприятных свойств тонкопленочных активных элементов является исключительно высокий шум типа 1//, диапазон которого может простираться вплоть до 10 Мгц и выше. Этот шум вероятнее всего связан с заполнением и освобождением глубоких ловушек на поверхности, так как у. полевых транзисторов с р-п затвором шум типа 1// становится ничтожным на частотах выше 1 кгц. Другим доказательством в пользу поверхностно-ловушечного происхождения этого шума служит тот факт, что тонкопленочные полевые транзисторы в режиме обеднения (когда заряды удалены от поверхности) имеют меньший низкочастотный шум, чем в режиме обогащения.
Одна и та же малосигнальная эквивалентная схема (рис. 13) пригодна как для полевых, так и для тонкопленочных транзисторов; значения символов на схеме очевидны.
 

Фотографирование

Степень уменьшения фотооригинала выбирается в соответствии с допусками, требуемыми на окончательной стадии, и площадью окончательного изображения. Естественно, если эта площадь весьма велика, скажем 5х Х2,5 см, и мультипликация неприемлема, то 20-кратное уменьшение будет максимально возможным с соответствующими ограничениями на допуски. Если же схема занимает площадь 0,25X0,25 см, то возможно 100-кратное уменьшение; кроме того, в этом случае можно размножить изображение и получить маску, содержащую сто или более изображений.
Используемый объектив должен иметь достаточную разрешающую способность и давать плоское изображение.
 

Вакуумное напыление

Вакуумное напыление 1[7]. Вакуумное напыление является, по-видимому, наиболее широко распространенным методом для "приготовления тонких пленок всех типов. Описано большое количество испарителей и вакуумных систем, а иногда упоминаются специальные устройства для диэлектриков с высокой температурой плавления [8,9]. I
Чаще всего напыляемые диэлектрические пленки имеют тенденцию к кристаллизации. Однако некоторые материалы (например, SiO или ZnS) являются аморфными, хотя во время роста имеют отчетливо (выраженную островковую структуру. Эта особенность хорошо иллюстрируется на примере ZnS—распространенного диэлектрика с относительной диэлектрической проницаемостью 10 и с низкими потерями. На рис. 12 показан микрорельеф пленки ZnS, напыляемой на подложку из монокристалла LiF, при толщине пленки около 8 А, т. е. на ранней стадии процесса. Можно заметить, что зерна ZnS собираются вдоль слоев подложки.
 

Транзисторная логика с резистивно-емкостными связями (РЕТЛ)

Как уже отмечалось, величина R$ в РТЛ определяется компромиссом между быстродействием и нагрузочной способностью, которая ограничена неравенством базовых токов. Это неравенство можно устранить, выбирая большие Re, но при этом снижается быстродействие из-за уменьшения закрывающего тока /Закр, увеличения необходимых перепадов напряжения и «интегрирования» сигнала во время открывания транзистора (благодаря наличию входной емкости со стороны базы). Решение этих проблем достигается включением «ускоряющего» конденсатора, шунтирующего большое сопротивление При
 
Еще статьи...
  • Фотокамера с точечным отверстием
  • Надежность
  • Сравнение помехоустойчивости в ТЛНС, РТЛ и РЕТЛ
  • Факторы, влияющие на рост пленки

<< Первая < Предыдущая 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 Следующая > Последняя >>

Страница 16 из 27


.