• Главная
  • Физика приборов
  • Подложки для тонкопленочных схем
  • Технология интегральных схем
  • Аппаратура

Главное меню
  • Главная
  • Физика приборов
  • Подложки для тонкопленочных схем
  • Технология интегральных схем
  • Аппаратура
  • Интегральные схемы
Главная Интегральные схемы Источники загрязнения органическими веществами

Источники загрязнения органическими веществами

Главные источники загрязнения вакуумных систем органическими веществами — смазки вакуумных насосов и уплотнения. Смазочные масла в роторных насосах могут иметь давление испарения при 15° С около 10~4 тор и значительно больше при рабочей температуре насоса (~40°С). На первой стадии откачки высокое начальное давление газа и встречный поток газа предотвращают диффузию паров смазочных масел в камеру, но когда давление падает приблизительно до 0,1 тор, диффузия этих паров становится существенной. Поэтому не рекомендуется использовать форвакуумный насос дольше, чем это необходимо, а для определенных типов покрытий желательно устанавливать масляную ловушку вблизи сопла роторного насоса.
Смазки, употребляемые в роторных насосах, представляют собой смеси минеральных масел, в которых компоненты с малым молекулярным весом имеют наибольшие давления паров. При работе в двухроторных насосах при высокой температуре более летучие фракции могут быть постепенно удалены. Однако фракции, которые испаряются первыми, имеют гораздо более высокое давление паров, чем та средняя величина, которая указывается фирмой-изготовителем для жидкой смеси. При соприкосновении с поверхностью, нагретой до 150° С или выше, минеральные масла и пары органических веществ начинают разлагаться. Поэтому обычно невозможно получить чистые поверхности путем длительного нагрева в вакуумных системах с предельным давлением выше Ю-8 тор.
Силиконовые эмульсии DC 704 и DC 705, употребляемые в диффузионных насосах, имеют давление паров при комнатной температуре соответственно 1(Н и 10~9 тор. Такие эмульсии устойчивы к термическому разложению вплоть до 300° С, но сильно адсорбируются стеклянными поверхностями, обезвоженными путем нагрева (2=250°С), или свежими пленками моноокиси кремния. Так как время для образования мономолекулярного хемоеорбционного слоя может превышать несколько минут, то .прокаливание не должно быть продолжительным, а только что напыленные покрытия не должны находиться в вакууме в течение длительного периода.
 


.